近期，光谷企業在半導體專用光刻膠行業實現重大突破：武漢太紫微光電科技有限機構（以下簡叫作“太紫微機構”）推出的T150 A光刻膠制品，已經過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。
該制品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于被業內叫作之為“妖膠”的國外同系列制品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，經過驗證發掘T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。
太紫微機構成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創立。團隊安身于關鍵光刻膠底層技術開發，在電子化學品行業深耕二十余載。
企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示：“以原材料的研發為起點，最后得到擁有自主知識產權的配方技術，這只是個起始，咱們團隊還會發展一系列應用于區別場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內關聯產業帶來更加多驚喜。”
太紫微核心開發團隊成員（前排左一為朱明強教授）
太紫微機構致力于半導體專用高端電子化學品材料的研發，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同期為材料的分析與驗證供給最全面的手段。
“無論是從國內半導體產業崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規律展望將來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻行業還會有非常多新技術、新企業破繭成蝶，但持有科技創新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問暗示。
