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    國產光刻膠經過量產驗證,武漢太紫微企業T150 A分辨率達120nm

    時間:2025-01-22 11:54:27 作者:147小編 點擊:

     

    IT之家 10 月 15 日信息,據武漢東湖新技術研發區管理委員會(中國光谷)今日信息,光谷企業在半導體專用光刻膠行業實現重大突破:

    武漢太紫微光電科技有限機構(以下簡叫作“太紫微機構”)推出的 T150 A 光刻膠制品經過半導體工藝量產驗證,實現配方全自主設計,有望開創國內半導體光刻制造新局面。

    中國光谷官方介紹叫作:“該制品對標國際頭部企業主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業內叫作之為‘妖膠’的國外同系列制品 UV1610,T150 A 在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到 120nm,且工藝寬容度更大,穩定性更高,堅膜后烘留膜率優秀,其對后道刻蝕工藝表現更為友好,經過驗證發掘 T150 A 中密集圖形經過刻蝕,下層介質的側壁垂直度表現優異。”

    IT之家查找公開資料獲悉,太紫微機構成立于 2024 年 5 月,由華中科技大學武漢光電國家科研中心團隊創立。

    太紫微機構企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強暗示:“以原材料的研發為起點,最后得到擁有自主知識產權的配方技術,這只是個起始咱們團隊還會發展一系列應用于區別場景下的KrF 與 ArF 光刻膠,為國內關聯產業帶來更加多驚喜。”

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